11月15日，至純科技召開2021年第三次臨時股東大會，審議通過“調整公司公開發行A股可轉換公司債券方案”等四項議案。新方案募集資金仍為不超過11億元，原方案中的“集成電路大宗氣體供應站及配套項目”換成了“半導體設備模組及部件制造項目”，資金也更加向前兩個項目集中。新方案投向為“單片濕法工藝模塊、核心零部件研發項目”“至純北方半導體研發生產中心項目”“半導體設備模組及部件制造項目”以及“補充流動資金或償還銀行貸款”；擬募投資金分別為3.5億元、2.5億元、1.7億元、3.3億元。公司表示，方案調整的原因系公司半導體設備需求旺盛，希望加快相關技術應用，大宗氣體項目將用自有資金繼續建設。

據悉，至純科技2021年前三季度實現營業收入12.83億元，同比增長68.71%；實現歸母凈利潤1.88億元，同比增長127.96%。公司主營業務包括半導體濕法清洗設備、高純工藝系統、光傳感應用及相關光學元器件的研發、生產和銷售。

公司半導體濕法清洗設備包含濕法槽式清洗設備及濕法單片式清洗設備。該類設備可以應用在先進工藝上，主要為存儲（DRAM，3DFlash）、先進邏輯產品等。目前至純科技是國內能提供到28納米節點全部濕法工藝的本土供應商。客戶包括中芯國際、華虹集團、長鑫存儲、華為、華潤、燕東、臺灣力晶等。

根據Gartner統計數據，2024年預計全球半導體清洗設備市場銷售額達31.93億美元。但事實上，2020年全球半導體清洗設備市場基本上被日本SREEN、日本TEL、韓國SEMES和美國LAM壟斷，市場銷售額合計占比97.7%，國產廠商至純科技、盛美中國、北方華創、芯源微等份額較低。作為國內半導體清洗設備龍頭企業，至純科技2020年相關業務收入僅為2.2億元。

不過，光大證券研報表示，至純科技半導體濕法清洗設備業務開始步入高速成長期，2021年上半年，公司新增濕法設備訂單達4.3億元，其中單片設備就達2億元。該研報預計，2021-2022年，至純科技濕法設備業務收入將達7.68億元和13.90億元。

公司深厚技術積累和廣闊市場前景也引來了大基金關注。今年10月份，至純科技半導體濕法清洗設備控股子公司至微科技擬通過增資擴股引入戰略投資者并進行部分股權轉讓。交易完成后，戰略投資者持有至微科技的比例約22%，增資方包括大基金二期、混改基金、中芯聚源、裝備材料基金、芯鑫鼎橡、遠致星火等。

除了半導體濕法清洗設備，至純科技在半導體高純工藝系統方面也保持高研發投入。在用戶價值上聚焦六個詞“高純、工藝、節能、環保、自動化、智能化”。該領域的投入兼具經濟效益和社會效益。

據介紹，泛半導體工藝伴隨許多種特殊制程，會使用到大量超高純（ppt級別）的干濕化學品，這是完成工藝成果的重要介質，其特點是昂貴并伴隨廢氣液排放。在集成電路領域，高純工藝系統主要包括高純特氣系統、大宗氣體系統、高純化學品系統、研磨液供應及回收系統、前驅體工藝介質系統等。其中，各類高純氣體系統主要服務于幾大干法工藝設備，各類高純化學品主要服務于濕法工藝設備。

目前公司高純工藝系統客戶包括中芯國際、華虹華力、華潤、士蘭微、長江存儲、長鑫存儲、海力士，以及三星、臺積電、力晶等。