近年來,國內(nèi)半導(dǎo)體逐步踏上擁抱先進制程之路,加入14nm、7nm工藝的芯片公司增多。而在此過程中一系列挑戰(zhàn)也隨之出現(xiàn),良率提升是其中最大的挑戰(zhàn)之一。提升良率不僅需要更前沿的生產(chǎn)技術(shù),還需要超純水工藝作為支撐。高頻科技為代表的本土超純水企業(yè),通過先進的超純水工藝助力提升半導(dǎo)體生產(chǎn)的良率和運營效率,賦能產(chǎn)業(yè)發(fā)展新征途。

完善超純水系統(tǒng),可有效提升IC制造良率

污染物是半導(dǎo)體器件性能、可靠性和良品率降低的直接原因。研究表明,沾污帶來的缺陷引起的芯片電學(xué)失效,比例高達80%。正因如此,芯片生產(chǎn)過程中需要利用超純水對硅片進行清洗。隨著半導(dǎo)體先進制程的推進,光刻步驟的增加,需要清洗的步驟也進一步增加,對超純水品質(zhì)的要求也更加嚴格。

在集成電路芯片制造過程中,與硅片接觸的超純水所含離子或微生物等雜質(zhì)越多,對產(chǎn)品良率影響就越大。只要顆粒、電阻率、TOC和氣泡中的一個指標(biāo)略有差異,半導(dǎo)體元件生產(chǎn)的合格率就會降低。反之,超純水系統(tǒng)越完善,水純度越高,越能為半導(dǎo)體元件良率提升帶去保障。

完善的超純水系統(tǒng)需要克服工藝和工程實踐的多重挑戰(zhàn)。一般超純水系統(tǒng)要經(jīng)由多重過濾、離子交換、除氣、逆滲透、紫外線、超濾、納米濾、離子吸附過濾等多個環(huán)節(jié)才能產(chǎn)生超純水,整個制造過程中采用的工藝技術(shù)復(fù)雜而精細,不容偏差。此外,各地供應(yīng)水源中的離子含量也各有差別,為適應(yīng)供水水源的轉(zhuǎn)變并保證出水水質(zhì),電子級超純水制備系統(tǒng)需要進行優(yōu)化,加強技術(shù)聯(lián)用工藝設(shè)計與運行,這也對超純水企業(yè)的工藝能力帶去挑戰(zhàn)。

掌握先進超純水工藝,護航半導(dǎo)體良率

高頻科技作為立足于超純工藝能力的工業(yè)級技術(shù)服務(wù)商,不斷通過技術(shù)工藝研發(fā)創(chuàng)新提升超純水工藝成熟度,在探索超純水絕對純度的道路上不斷獲得突破,實現(xiàn)了以“純度”護航半導(dǎo)體良率。

面對硼、硅等特殊物質(zhì)去除這一讓行業(yè)頭疼的難題,高頻科技通過工藝創(chuàng)新以及終端材料的優(yōu)化,實現(xiàn)了PPT級別的深度去除。并憑借過硬的技術(shù)把控力和工程實踐經(jīng)驗,針對有機物(TOC)、顆粒物、細菌、金屬和陰離子等影響良率的主要雜質(zhì),已經(jīng)實現(xiàn)領(lǐng)先于行業(yè)的技術(shù)成果,產(chǎn)水水質(zhì)接近絕對純度,電導(dǎo)率無限接近18.24MΩ?厘米的理論極限值,其純度可達99.9999999999%,不斷滿足半導(dǎo)體行業(yè)日益提升的用水需求,并為提升芯片生產(chǎn)良品率帶去助力,獲得客戶認可和行業(yè)廣泛關(guān)注。

同時,針對半導(dǎo)體超純水運維復(fù)雜、麻煩,成本較高等行業(yè)痛點,高頻科技依托公司大批自有優(yōu)秀半導(dǎo)體水系統(tǒng)專家的資深經(jīng)驗,創(chuàng)立標(biāo)準(zhǔn)化運維專家模型,為半導(dǎo)體工廠量身定制一體化運維服務(wù)體系,滿足客戶全周期、高效率運維需求、并幫助拓展降本增效空間,滿足省事舒心的需求。

提升良率是芯片廠商自始至終都需要關(guān)注的重要課題,良率高低不僅取決于芯片的設(shè)計和生產(chǎn)制造水平,還貫穿產(chǎn)業(yè)鏈的上下游,貫穿于芯片生產(chǎn)的全周期。超純水作為芯片生產(chǎn)過程中極為重要的一環(huán),與半導(dǎo)體生產(chǎn)良品率及生產(chǎn)成本等直接相關(guān)。高頻科技等具有先進工藝的超純水企業(yè),通過不斷提升超純水產(chǎn)品質(zhì)量及服務(wù)水平,為半導(dǎo)體良品率提升,以及構(gòu)筑高質(zhì)發(fā)展壁壘做出貢獻。