上海新陽(yáng)3月11日晚公告，近日，由子公司芯刻微委托盛吉盛代理投標(biāo)，成功中標(biāo)購(gòu)得ASML XT1900 Gi型二手光刻機(jī)一臺(tái)，該設(shè)備可用于研發(fā)分辨率達(dá)28nm的高端光刻膠。后續(xù)公司將啟動(dòng)設(shè)備的運(yùn)輸及相關(guān)安裝調(diào)試等工作。

盡管公告并未透露上述二手光刻機(jī)的價(jià)格，但可以參考的是，2020年9月，同處半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的晶瑞股份計(jì)劃斥資1102.5萬(wàn)美元購(gòu)買ASML的光刻機(jī)設(shè)備。晶瑞股份后面披露的公告顯示，該光刻機(jī)為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機(jī)。

這也不是上海新陽(yáng)第一次購(gòu)買ASML的光刻機(jī)。公司3月8日公告稱，自立項(xiàng)開發(fā)193nmArF干法光刻膠的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目以來(lái)，安排購(gòu)買了ASML-1400光刻機(jī)等核心設(shè)備。該光刻機(jī)原計(jì)劃2020年底前運(yùn)抵國(guó)內(nèi)，但由于公司與光刻機(jī)供應(yīng)商、合作方溝通協(xié)調(diào)設(shè)備運(yùn)輸與安裝等細(xì)節(jié)，致使設(shè)備沒能在規(guī)定時(shí)間內(nèi)運(yùn)達(dá)，預(yù)計(jì)于2021年3月底前進(jìn)入合作方現(xiàn)場(chǎng)。

上海新陽(yáng)表示，公司作為國(guó)內(nèi)集成電路制造關(guān)鍵工藝材料供應(yīng)商，將突破集成電路高端光刻膠國(guó)外壟斷，實(shí)現(xiàn)集成電路高端光刻膠材料的國(guó)產(chǎn)化作為發(fā)展目標(biāo)，在ArF干法、KrF厚膜及I線光刻膠方面已有技術(shù)與產(chǎn)品的突破。

而且，通過(guò)子公司芯刻微開展的ArF濕法光刻膠項(xiàng)目研發(fā)也已引進(jìn)了核心技術(shù)專家團(tuán)隊(duì)，為ArF濕法光刻膠項(xiàng)目的開發(fā)提供了技術(shù)保障?，F(xiàn)采購(gòu)ASML浸沒式光刻機(jī)設(shè)備是對(duì)公司ArF濕法光刻膠技術(shù)先進(jìn)性的設(shè)備保障，對(duì)加快公司集成電路制造用光刻膠產(chǎn)品研發(fā)項(xiàng)目進(jìn)度有積極影響，有利于進(jìn)一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競(jìng)爭(zhēng)力，加速落實(shí)公司發(fā)展戰(zhàn)略，提高公司抗風(fēng)險(xiǎn)能力和可持續(xù)發(fā)展能力。

上海新陽(yáng)強(qiáng)調(diào)，光刻膠產(chǎn)品在集成電路材料中技術(shù)難度大，質(zhì)量要求最高，開發(fā)周期長(zhǎng)，且核心技術(shù)及原材料幾乎被國(guó)外廠商所壟斷。因此，存在著研發(fā)失敗和研發(fā)計(jì)劃滯后的風(fēng)險(xiǎn)。

公告顯示，3月11日，芯刻微向盛吉盛支付10%首期貨款購(gòu)入該光刻機(jī)，剩余款項(xiàng)在6個(gè)月內(nèi)付清。